ASM International N.V. ha presentato il sistema di forni verticali SONORA® con camere a doppio reattore per wafer da 300 mm. I reattori a doppia camera del sistema producono il più alto rendimento disponibile nella sua categoria, aumentando l'utilizzo del reattore fino a quasi il 100%, garantendo al contempo il più basso costo di investimento. Il nuovo SONORA® è completamente compatibile con l'A412™ originale, quindi le ricette di processo esistenti possono essere facilmente trasferite, accelerando la qualificazione e il ramp up del sistema.

Sono iniziate le consegne del sistema a diversi clienti a livello globale, tra cui i leader nella produzione di dispositivi logici avanzati e di potenza. Il precedente sistema di forni verticali A412™ di ASM ha una comprovata esperienza di oltre 1.000 reattori spediti a clienti in tutto il mondo e oltre 22 anni di maturità nella produzione di semiconduttori. Il nuovo SONORA® ha un'architettura di sistema innovativa che massimizza la produttività dello spazio a terra e l'area di servizio.

I suoi moduli di processo dedicati dispongono di mini ambienti ad alta purezza controllati individualmente. L'innovativo sistema di iniezione di gas dell'azienda per il processo a bassa pressione fornisce le migliori uniformità dei film depositati tra i singoli wafer a dimensioni di carico maggiori. Queste dimensioni di carico dei wafer di processo più grandi, combinate con il sistema di controllo aggiornato, i nuovi robot, il raffreddamento più rapido dei wafer e i moduli di cambio barca più veloci, generano fino al 30% di produttività in più, rispetto al suo predecessore.

La maggiore produttività si traduce anche in un minor consumo di energia e di sostanze chimiche per wafer. Un'attenzione particolare è stata data al design per la manutenibilità, con un accesso spazioso per tutte le attività di manutenzione. Il nuovo sistema è stato ulteriormente modernizzato con un'interfaccia grafica intuitiva, una manutenzione predittiva tramite una diagnostica di controllo avanzata e un'installazione plug & play.

I clienti possono contare su SONORA per una maggiore affidabilità e una migliore facilità d'uso, con una produzione che raggiunge una migliore ripetibilità, produttività e utilizzo del tempo. Come il suo predecessore, SONORA offre un portafoglio completo di applicazioni di processo, compresi i processi di deposizione di vapore chimico a bassa pressione, come i film di silicio drogato e nitruro di silicio, i processi di diffusione come l'ossidazione a umido e i processi di ricottura, nonché un portafoglio leader di materiali per la deposizione di strati atomici.