ASM International N.V. ha annunciato TENZATM ALD, un'innovativa tecnologia di processo di deposizione di strato atomico (ALD) su singolo wafer per wafer da 300 mm. TENZATM ALD è ottimizzato per le applicazioni gap-fill e fornisce la migliore qualità del film, la copertura conforme attraverso l'intera trincea e la più alta produttività della sua categoria. TENZATM ALD è offerto sull'architettura del modulo a camera quadrupla (QCM) ad alta produttività di ASM, con quattro reattori strettamente integrati su ogni QCM.

In una configurazione compatta, è possibile collegare alla piattaforma XP8 fino a 4 QCM che eseguono il processo TENZATM ALD, consentendo di elaborare fino a 16 wafer alla volta. TENZATM ALD utilizza un design innovativo ottimizzato per le reazioni ALD, riducendo al minimo il volume del processo per la massima efficienza di utilizzo dei precursori, riducendo il consumo di precursori fino al 50% e aumentando la produttività di oltre il doppio rispetto agli approcci ALD convenzionali. Ogni camera del reattore controlla individualmente l'alimentazione del plasma RF e il sistema di abbinamento, per migliorare la riproducibilità del processo.

Il reattore di piccolo volume offre anche prestazioni eccellenti in termini di difetti e una maggiore durata del reattore (tempo di funzionamento prima della manutenzione preventiva). Le reazioni di processo sono confinate all'interno di ogni spazio del reattore di piccolo volume per ridurre al minimo le parti consumabili, rendendo la manutenzione molto semplice e meno costosa. TENZATM ALD consente una varietà di applicazioni di ossido di silicio per il riempimento di spazi vuoti e rivestimenti per una serie di strutture in transistor avanzati, dispositivi di memoria e interconnessioni.

L'industria può contare su TENZATM ALD per fornire un processo di gap-fill di alta qualità, affidabile, ripetibile e collaudato dalla produzione, con il più basso costo di proprietà oggi sul mercato. Sono iniziate le consegne di TENZATM ALD a diversi clienti globali, tra cui i leader nella produzione di dispositivi di memoria. L'architettura compatta e matura del modulo ALD a camera quadrupla di ASM ha un'esperienza comprovata, con oltre 2.000 reattori consegnati ai clienti.