Air Liquide (Paris:AI) ha annunciato che costruirà un nuovo impianto di produzione di gas industriali negli Stati Uniti per rifornire la nuova fabbrica di uno dei principali produttori di semiconduttori al mondo. Nell'ambito di un contratto a lungo termine, l'impianto fornirà grandi volumi di gas industriali ad alta purezza per la produzione di chip di memoria. Air Liquide investirà oltre 250 milioni di dollari in questa unità produttiva all'avanguardia.

Air Liquide costruirà, possiederà e gestirà un nuovo impianto di produzione di gas industriali in Idaho, che produrrà grandi volumi di azoto ultrapuro e altri gas per Micron Technology Inc. (Nasdaq: MU), oltre che per altri clienti dell'area. Questo investimento porterà centinaia di posti di lavoro diretti e indiretti nell'Idaho durante la costruzione e il funzionamento, e si prevede che l'impianto sarà operativo entro la fine del 2025. Questo impianto innovativo fa parte di una soluzione completa di Carrier Gas progettata da Air Liquide per i grandi clienti, con un'impronta di terreno ottimizzata e un costo totale di proprietà.

L'uso di tecnologie digitali, la standardizzazione e la modularizzazione apporteranno un valore eccezionale ai clienti locali in termini di affidabilità, tempi di consegna ridotti ed esecuzione efficiente del progetto. Questo progetto è un esempio concreto di come Air Liquide stia contribuendo al progresso tecnologico, ottimizzando al contempo l'impronta ambientale del settore dei semiconduttori. Il design avanzato di questo impianto di gas vettore di nuova generazione ad alta efficienza, produce l'intera gamma di gas critici richiesti in loco, con requisiti energetici e logistici ridotti.

La nuova unità di produzione ha un'efficienza energetica superiore del 5% rispetto agli impianti della generazione precedente. Producendo la maggior parte dei gas in loco, si eviterà anche di trasportarli con i camion. Inoltre, l'elettricità per l'impianto è destinata a provenire al 100% da fonti rinnovabili entro i prossimi cinque anni.