Lasertec Corporation ha annunciato il rilascio del sistema di ispezione di maschere modellate EUV attiniche ACTIS serie A300 per High-NA. Il sistema di ispezione della maschera modellata EUV attinica ACTIS A150 fornito da Lasertec ha facilitato l'adozione della litografia EUV nella produzione di alti volumi. È rinomato per le sue eccellenti prestazioni di ispezione nel settore.

Il nuovo ACTIS A300 è un modello di nuova generazione che soddisfa i requisiti dei processi di produzione che utilizzano la litografia EUV ad alta nitidezza, per consentire un'ulteriore miniaturizzazione delle geometrie dei dispositivi. La serie A300 utilizza ottiche di nuova concezione e la sorgente luminosa ad alta luminosità URASHIMA. Raggiunge un miglioramento significativo delle prestazioni di rilevamento dei difetti rispetto alla serie A150.

Le ottiche anamorfiche utilizzate nella litografia high-NA hanno adottato diversi ingrandimenti di proiezione nelle direzioni X e Y. L'ispezione delle maschere EUV per la litografia high-NA, quindi, richiede diversi livelli di risoluzione nelle due direzioni. La serie A300 può essere utilizzata anche per ispezionare le maschere EUV per l'attuale litografia NA, nonché le maschere EUV per la litografia high-NA.

Lasertec si dedica a sostenere le esigenze dei produttori di semiconduttori all'avanguardia, sviluppando soluzioni uniche e facilitando il miglioramento della qualità e della produttività, contribuendo così al progresso dell'industria. Caratteristiche: Ispezione di maschere EUV per la litografia high-NA. Ispezione di maschere EUV per l'attuale litografia NA.

Ispezione ad alta produttività con ottica altamente efficiente e sorgente luminosa ad alta luminosità URASHIMA. Applicazioni: Ispezione di garanzia della qualità durante i processi di produzione delle maschere EUV. Ispezione delle maschere EUV in entrata e ispezione periodica di garanzia della qualità presso le fabbriche di wafer.