ACM Research, Inc. attraverso la sua filiale operativa ACM Research (Shanghai), Inc. ha annunciato di aver ricevuto il primo ordine di acquisto (PO) per il suo strumento di pulizia del substrato Ultra C SiC. La piattaforma sfrutta la tecnologia di pulizia Space Alternated Phase Shift (SAPS) brevettata da ACM, progettata per ottenere una pulizia più completa senza danneggiare le caratteristiche del dispositivo. Il PO è stato ricevuto da un importante produttore cinese di substrati in carburo di silicio (SiC) e si prevede che la spedizione avvenga entro la fine del terzo trimestre del 2023.

I substrati di SiC sono utilizzati per produrre semiconduttori di potenza, impiegati in un'ampia gamma di applicazioni come la conversione di potenza, i veicoli elettrici e le energie rinnovabili. I vantaggi principali della tecnologia basata su SiC includono la riduzione delle perdite di potenza di commutazione, una maggiore densità di potenza, una migliore dissipazione del calore e una maggiore capacità di larghezza di banda. L'aumento della domanda di semiconduttori di potenza da parte di vari settori, come quello automobilistico e delle energie rinnovabili, sta guidando la crescita del mercato dei dispositivi SiC, che si prevede supererà i 4 miliardi di dollari entro il 2026, secondo Yole Développement.