Azioni Ion Electronic Materials Co., Ltd.

Ion Electronic Materials Co Ltd è impegnata nella fornitura di gas e macchinari speciali. Le attività dell'azienda comprendono la produzione e la vendita di gas speciali e macchinari. I gas speciali comprendono gas dopanti, gas puliti e mordenzanti, gas per film sottili CVD e gas per litografia laser. I gas dopanti sono utilizzati come gas speciali per il processo di impianto ionico dei semiconduttori e dopo l'impianto, tra cui arsina, fosfina, trifluoruro di boro (11B), trifluoruro di boro arricchito 11B e tetrafluoruro di germanio. I gas di pulizia e mordenzatura sono il trifluoruro di azoto, utilizzato come gas di pulizia nei semiconduttori e nei pannelli a cristalli liquidi, nonché il gas di miscela F2/N2, utilizzato nell'elettronica, nella tecnologia laser e nelle apparecchiature mediche. Il gas per film sottili CVD comprende SiH4, Si2H6, DCS e TCS utilizzati nei semiconduttori. Il gas per litografia laser comprende ArF193nm, KrF248nm, gas di ricottura laser, Ne e Kr utilizzati nel processo di fotoresistenza. Vengono utilizzati macchinari per la ricarica di gas speciali.