Nova Ltd. ha annunciato il sistema Nova Metrion® di seconda generazione per la spettrometria di massa di ioni secondari in linea (SIMS). Il nuovo Metrion® incorpora miglioramenti chiave, tra cui una maggiore sensibilità e una migliore compensazione della carica, ed è ora disponibile per la spedizione ai clienti. Il sistema Metrion® introduce un'esclusiva capacità di profilazione della composizione in linea per le misurazioni chiave del controllo di processo, tra cui contaminazione, residui e diffusione, che non possono essere ottenute con altre tecniche di misurazione.

Quest'ultima versione offre anche tempi più rapidi per i risultati, un migliore controllo dell'uniformità del dopante e una migliore risoluzione della profondità. Il nuovo Metrion® è stato sottoposto a dimostrazioni estensive per i clienti nel 2023. Sulla base degli ordini di acquisto e degli accordi di valutazione esistenti, la piattaforma sarà installata presso diversi clienti leader per sottoporla a un processo di qualificazione nelle linee di produzione dei dispositivi logici e di memoria più avanzati.

L'azienda prevede di riconoscere i ricavi iniziali di Nova Metrion® di seconda generazione nella seconda metà del 2024. Nova Metrion® consente misurazioni avanzate del profilo dei materiali, portando la spettrometria di massa a ioni secondari nelle linee di produzione dei semiconduttori. È stato progettato da zero per la produzione di grandi volumi, integrando perfettamente l'analisi a livello di wafer in un flusso di lavoro di fabbrica automatizzato ed eliminando la necessità di inviare coupon di wafer a un laboratorio esterno.

Il sistema impiega una nuova tecnologia di rilevamento che consente l'acquisizione simultanea di più specie di materiali, con una conseguente maggiore densità di dati, una migliore risoluzione di profondità e una maggiore sensibilità alle piccole variazioni di concentrazione.